De basis van voor textiel gebruiktede glasvezels is [[kwarts]] (SiO<sub>2</sub>). In zijn zuivere vorm bestaat het als polymeer (SiO<sub>2</sub>)<sub>''n''</sub>. Het heeft geen exact te bepalen [[smeltpunt]] maar wordt bij verhitting steeds zachter, tot het op 2000 °C begint te degraderen. Bij 1713 °C kunnen de meeste moleculen zich vrij bewegen. Als het glas daarna snel wordt afgekoeld, heeft het glas niet genoeg tijd om een geordende structuur te vormen. De atomen vormen dan een rooster met gedeelde [[Zuurstof (element)|zuurstof]]atomen tussen de siliciumatomen. De glas- en [[kristallijn]]e toestanden van [[siliciumdioxide|silica]] hebben vergelijkbare energieniveaus op een moleculaire basis, waardoor het glas min of meer stabiel is. Om verdere kristallisatie te bevorderen moet het voor langere tijd blootgesteld worden aan temperaturen boven 1200 °C, maar een kristallijne vorm is meestal niet wenselijk (dan wordt het materiaal te broos).
Hoewel zuivere silica bruikbaar zijn, moet er bij zeer hoge temperaturen gewerkt worden. Daarom wordt doorgaans de benodigde temperatuur verlaagd door onzuiverheden (in de vorm van andere materialen) in het glas te introduceren. Deze materialen kunnen dan ook verscheidene andere eigenschappen aan het glas geven die in verschillende toepassingen nuttig kunnen blijken. Zuivere silica worden alleen gebruikt als de specifieke eigenschappen hiervan nodig zijn.
