Er zijn twee belangrijke synthesepaden te onderscheiden. DeHet ene vereist een reductie van kwarts SiO<sub>2</sub> naar het element silicium bij hoge temperatuur (1500 °C). Het silicium wordt daarna behandeld met CH<sub>3</sub>Cl en Zn. Daarbij worden methylchloriden van silicium gevormd. Door destillatie wordt daaruit Me<sub>2</sub>SiCl<sub>2</sub> vervaardigd. Hydrolyse met water vormt daaruit siloxanen die als basis voor de silicoonsynthese gebruikt worden. Het andere pad vereist lang niet zulke hoge temperaturen. Kwarts wordt bij 227-327 °C blootgesteld aan dimethylcarbonaat en natronloog. Daardoor ontstaat Si(OMe)<sub>4</sub> tetra-alkoxysilaan. Dit wordt daarna met een [[Grignard-reactie]] omgezet in een mengsel dat dimethyldialkoxysilaan Me<sub>2</sub>Si(OMe)<sub>2</sub> bevat. Deze stof word door destillatie gezuiverd en daarna middels hydrolyse tot siloxanen omgezet. De tweede methode is een stuk minder kostbaar qua energie. <ref>''Cyclic, Tethered and Nanoparticulate Silicones for Material Modification'', {{Aut|Georgia Institute of Technology}}, ProQuest, 2008, ISBN 0549801626, ISBN 9780549801627</ref>
