Versie van 20 nov 2008 11:02 bewerken Klever (overleg \| bijdragen) 29.082 bewerkingen →‎Industriële bereiding ← Oudere bewerking		Versie van 20 nov 2008 11:05 bewerken ongedaan maken Klever (overleg \| bijdragen) 29.082 bewerkingen nog wat links gelegd Nieuwere bewerking →
Regel 64: '''Wolfraamhexafluoride''' ofwel '''Wolfraam(VI)fluoride''' is een kleurloos gas. Het is niet brandbaar, maar het is erg corrosief en zeer giftig. Het is het zwaarste gas, d.w.z. het gas met de hoogste dichtheid bij een druk van 1 atm kamertemperatuur (25 °C). (~~Uraanhexafluoride~~[[Uraniumhexafluoride]] is zwaarder maar dedie stof is een vluchtige vaste stof bij deze omstandigheden). Het molecuul is octaëdrisch met een [[puntgroep]] van O<sub>h</sub>. Het gas wordt het meest gebruikt in de vervaardiging van ~~halfgeleiderschakelingen~~[[halfgeleider]]schakelingen voor het opbrengen van wolfraamcontacten via de dampfase.<ref name="chemvap">Kirss, Rein U., Lamartine Meda. "Chemical Vapor Deposition of Tungsten Oxide." ''Applied Organometallic Chemistry'' 12 (1998): 155–160.</ref> ==Industriële bereiding== Regel 81: Bovenstaande reactie vindt plaats als WF<sub>6</sub> gebruikt wordt om wolfraam op aluminium te deponeren. Een mogelijke toepasing hiervan is het aanbrengen van wolfraamknopjes op halfgeleiderschakelingen.<ref name="use">[http://www.priorartdatabase.com/IPCOM/000038388/ Ip.com]</ref> Wolfraam kan ook worden opgebracht op een plak silicium of ander halfgeleider materiaal via chemische-dampdepositie ([[CVD-proces]]) als volgt:<ref name="react">[http://www.mne.umd.edu/grad/courses/old_courses_stuff_saved/659s_mats_&_proc_for_microelectronics/659s_spring_1998/enma659S_spr98_final_project_results/wcvd/sih4.html James Clark School of Engineering]</ref> WF<sub>6</sub>(''g'') + W* → WF<sub>6</sub>*

Wolfraam(VI)fluoride: verschil tussen versies