Physical vapor deposition

Physical vapor deposition, afkorting PVD, is het fysisch aanbrengen van een stof door dampafzetting.

IJskristalafzetting (rijp) op een boom is een natuurlijk PVD-proces

OnderverdelingBewerken

Het opdampproces kan als volgt worden onderverdeeld.

  • Bij gereduceerde atmosferische druk:
    • physical vapor deposition (PVD)
    • sputteren (ionplating/ionenimplantatie): in een plasma wordt een potentiaalverschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak
    • pulsed laser deposition (PLD): een pulserende laser dient als energiebron
  • Bij normale druk:
    • thin-film deposition (dunnelaagafzetting): opdampproces waarbij, net als met rijp, materiaal op een substraat (ondergrond) aangroeit

WerkingsprincipeBewerken

Op het al dan niet verwarmde substraat wordt als gevolg van een fysische reactie, waarbij een materiaal overgaat van de vaste naar de damptoestand, opgedampt of neergeslagen.

ToepassingenBewerken

Zie ookBewerken