Fotolithografie: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
aanvulling |
kGeen bewerkingssamenvatting |
||
Regel 1:
'''Fotolithografie''' of '''fotomicrolithografie''' is een techniek om kleine structuren aan te maken voor bij voorbeeld een [[printplaat]] of [[geïntegreerde schakeling]]. De techniek bestaat erin, om eerst een zogenaamd [[masker]] aan te maken waarop de structuur al dan niet vergroot staat en dan door belichting de structuur met een objectief af te beelden op een fotogevoelige laag van [[fotoresist]]. Daarna volgt een stap etsen, waarbij het etsmiddel alleen daar werkt waar de resist weg is.
Voor printplaten is het masker een glazen fotografische plaat of een kunststof fotografische film. Belichting gebeurt met ultraviolet lampen. Voor geïntegreerde schakelingen kan er gebruik worden gemaakt van een optische bron, een [[excimerlaser]] of niet-optische bron, een [[
[[categorie:techniek]]
| |||