Physical vapor deposition: verschil tussen versies

13 bytes toegevoegd ,  15 jaar geleden
k
** '''PVD''' (''Physical Vapor Deposition'')
** '''[[Sputteren]]''' ('''ionplating'''/'''ionenimplantatie'''): In een [[Plasma (aggregatietoestand)|plasma]] wordt een [[potentiaal]]verschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak.
**'''PLD''' (''Pulsed laser deposition''): Een [[pulserend]]e [[laser (licht)|laser]] dient als energiebron.
* Bij normale druk:
*'''Thin-Film Deposition''' (dunne laag afzetting): Opdampproces waarbij, net als met [[rijp]], materiaal op een substraat (ondergrond) aangroeit.
 
 
==Werkingsprincipe==
566

bewerkingen