Wolfraam(VI)fluoride: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
k Categorie:Fluoride verwijderd; Categorie:Hexafluoride toegevoegd (HotCat.js) |
1 bron(nen) gered en 0 gelabeld als onbereikbaar #IABot (v1.4.1) |
||
Regel 79:
== Toepassingen bij chemical vapor deposition ==
Wolfraam(VI)fluoride wordt gebruikt wordt om een laagje wolfraam op [[aluminium]] te deponeren via [[chemical vapor deposition]]. Een mogelijke toepassing hiervan is het aanbrengen van wolfraamknopjes op halfgeleiderschakelingen.<ref name="use">[
Wolfraam kan ook worden opgebracht op een chip van silicium of ander halfgeleider materiaal via chemical vapor deposition.<ref name="react"><!--[http://www.mne.umd.edu/grad/courses/old_courses_stuff_saved/659s_mats_&_proc_for_microelectronics/659s_spring_1998/enma659S_spr98_final_project_results/wcvd/sih4.html]--> James Clark School of Engineering</ref> Het proces is temperatuurafhankelijk. Onder de 400°C vindt de ontleding naar [[siliciumtetrafluoride]] plaats:
| |||