Fotoresist: verschil tussen versies

* Een positiefepositief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen.

* Een negatief resist (NR) wordt net hard door licht; na spoelen metdoor de [[ontwikkelingsvloeistof,]] worden de delen die zich achter het [[belichtingsmasker]] bevonden, weggespoeld.