Fotoresist: verschil tussen versies

6 bytes toegevoegd ,  13 jaar geleden
geen bewerkingssamenvatting
 
Een '''fotoresist''' is een materiaal dat onder invloed van [[UV-licht]] verandert:
* Een positiefepositief resist (PR) wordt oplosbaar onder invloed van licht; de afgedekte delen blijven over na het spoelen.
* Een negatief resist (NR) wordt net hard door licht; na spoelen metdoor de [[ontwikkelingsvloeistof,]] worden de delen die zich achter het [[belichtingsmasker]] bevonden, weggespoeld.
 
 
Anonieme gebruiker