Fotoresist: verschil tussen versies

11 bytes verwijderd ,  4 jaar geleden
geen bewerkingssamenvatting
k (zie nl.wiktionary)
 
 
Een '''fotoresist''' of '''fotolak''' is een materiaal dat onder invloed van [[ultraviolet|UV-licht]] verandert:
* Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het [[masker|belichtingsmasker]] bevonden worden door de [[ontwikkelen (fotografie)|ontwikkelvloeistof]] weggespoeld.
* Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.
 
Anonieme gebruiker