Physical vapor deposition: verschil tussen versies

52 bytes verwijderd ,  7 jaar geleden
geen bewerkingssamenvatting
[[ImageBestand:Windbuchencom.jpg|right|thumb|350px|[[IJskristal]]afzetting (rijp) op een boom is een natuurlijk PVD-proces.]]
{| align=right
|-
[[Image:Windbuchencom.jpg|right|thumb|350px|[[IJskristal]]afzetting (rijp) op een boom is een natuurlijk PVD-proces.]]
|-
|}
'''Physical vapor deposition''', afkorting '''PVD''', is het fysisch aanbrengen van een stof door dampafzetting.
 
==Onderverdeling==
Het opdampproces kan zoals volgt worden onderverdeeld:.
* Bij gereduceerde atmosferische druk:
** '''Physicalphysical vapor deposition''' (PVD).
** '''[[Sputterensputteren]]''' ('''ionplating'''/'''ionenimplantatie'''): Inin een [[Plasma (aggregatietoestand)|plasma]] wordt een [[potentiaal]]verschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak.
** '''Pulsedpulsed laser deposition''' (PLD): Eeneen [[pulserend]]e [[laser (licht)|laser]] dient als energiebron.
* Bij normale druk:
** '''Thinthin-film deposition''' (dunnelaagafzetting): Opdampprocesopdampproces waarbij, net als met [[rijp]], materiaal op een substraat (ondergrond) aangroeit.
 
==Werkingsprincipe==
Op het al dan niet verwarmde substraat wordt als gevolg van een ''[[Fysische chemie|fysische]]'' reactie, waarbij een materiaal overgaat van de vaste naar de damptoestand, opgedampt of neergeslagen.
 
==Toepassingen==
500.671

bewerkingen