Versie van 31 aug 2014 02:24 bewerken Zatev (overleg \| bijdragen) uitgebreid bevestigde gebruikers 12.501 bewerkingen k afbeelding toegevoegd ← Oudere bewerking		Versie van 9 sep 2014 21:04 bewerken ongedaan maken Zatev (overleg \| bijdragen) uitgebreid bevestigde gebruikers 12.501 bewerkingen k zie nl.wiktionary Nieuwere bewerking →
Regel 1: [[Bestand:Vegleich Positiv- und Negativlack.svg\|thumb\|Vergelijking van positieve en negatieve fotoresist]] Een '''fotoresist''' of '''fotolak''' is een materiaal dat onder invloed van [[ultraviolet\|UV-licht]] verandert: * Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het [[masker\|belichtingsmasker]] bevonden worden door de [[ontwikkelen (fotografie)\|ontwikkelvloeistof]] weggespoeld. * Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.

Fotoresist: verschil tussen versies