Fotoresist: verschil tussen versies

108 bytes toegevoegd ,  5 jaar geleden
k
afbeelding toegevoegd
k (Robot: Verplaatsing van 11 interwikilinks. Deze staan nu op Wikidata onder d:q1439684)
k (afbeelding toegevoegd)
[[Bestand:Vegleich Positiv- und Negativlack.svg|thumb|Vergelijking van positieve en negatieve fotoresist]]
 
Een '''fotoresist''' is een materiaal dat onder invloed van [[ultraviolet|UV-licht]] verandert:
* Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het [[masker|belichtingsmasker]] bevonden worden door de [[ontwikkelen (fotografie)|ontwikkelvloeistof]] weggespoeld.
5.382

bewerkingen