Physical vapor deposition: verschil tussen versies

56 bytes toegevoegd ,  15 jaar geleden
k
Robot-geholpen doorverwijzing: Plasma
k (Robot-geholpen redirect-oplossing: Digital versatile disc)
k (Robot-geholpen doorverwijzing: Plasma)
* Bij gereduceerde atmosferische druk:
** '''PVD''' (''Physical Vapor Deposition'')
** '''[[Sputteren]]''' ('''ionplating'''/'''ionenimplantatie'''): In een [[Plasma (aggregatietoestand)|plasma]] wordt een [[potentiaal]]verschil gecreëerd waardoor het spettert op het substraatoppervlak.
**'''PLD''' (''Pulsed laser deposition''): Een [[pulserend]]e [[laser]] dient als energiebron.
* Bij normale druk:
==Zie ook==
*[[Oppervlaktebehandelingen]]
*[[Plasma (aggregatietoestand)|Plasma]]
 
[[Categorie: Bewerkingstechniek]]