Oppervlaktebehandeling: verschil tussen versies

Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
Geen bewerkingssamenvatting
Geen bewerkingssamenvatting
Regel 6:
 
==A==
*[[CVD-procesChemical vapor deposition| A CVD]]
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|AC CVD]]
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|AL CVD]]
*[[Fosfateren|Aluminiumfosfateren]]
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|AP CVD]]
*[[Anodiseren]]
==B==
Regel 25:
*[[Cladding]]
*[[Coating|Coaten]]
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|CVD (Chemicalchemical vapor deposition)]]
==D==
*Deklaag
Regel 41:
*[[Kolsteriseren|Hardcor-proces]]
*[[Anodiseren|Hardanodiseren]]
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|HF CVD]]
==I==
*[[Dopering|Ionen implantatie]]
Regel 55:
*[[Lasercladden]]
*[[Laserschokharden]]
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|LP CVD]]
==M==
*[[Fosfateren|Mangaanfosfateren]]
Regel 62:
*[[Microcleanen]]
*[[Micropeenen]]
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|MO CVD]]
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|MP CVD]]
==N==
*[[Kolsteriseren|Nitreren]]
Regel 84:
==Q==
==R==
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|RPR CVD]]
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|RT CVD]]
==S==
*[[Schooperen]]
Regel 99:
*[[Thermisch verzinken]]
==U==
*[[CVD-procesChemical vapor deposition|UHV CVD]]
==V==
*[[Galvaniseren|Vernikkelen]]