Wolfraam(VI)fluoride: verschil tussen versies
Verwijderde inhoud Toegevoegde inhoud
k Botgeholpen oplossing voor doorverwijzing: Halfgeleider - Verwijzing(en) gewijzigd naar Halfgeleider (elektronica) |
k sp |
||
Regel 75:
== Toepassingen bij chemical vapor deposition ==
Wolfraam(VI)fluoride wordt gebruikt wordt om een laagje wolfraam op aluminium te deponeren via [[chemical vapor deposition]]. Een mogelijke
Wolfraam kan ook worden opgebracht op een chip van silicium of ander halfgeleider materiaal via chemical vapor deposition.<ref name="react">[http://www.mne.umd.edu/grad/courses/old_courses_stuff_saved/659s_mats_&_proc_for_microelectronics/659s_spring_1998/enma659S_spr98_final_project_results/wcvd/sih4.html James Clark School of Engineering]</ref> Het proces is
:<math>\mathrm{2\ WF_6\ +\ 3\ Si\ \longrightarrow 2\ W\ +\ 3\ SiF_4}</math>
|