Fotoresist: verschil tussen versies

38 bytes toegevoegd ,  10 jaar geleden
geen bewerkingssamenvatting
Een '''fotoresist''' is een materiaal dat onder invloed van [[ultraviolet|UV-licht]] verandert:
* Een positiefnegatief resist (PRNR) wordt oplosbaarhard onder invloed vandoor licht. De afgedekte delen blijvendie overzich naachter het spoelen[[masker|belichtingsmasker]] bevonden worden door de [[ontwikkelen (fotografie)|ontwikkelvloeistof]] weggespoeld.
* Een negatiefpositief resist (NRPR) wordt juist hardoplosbaar dooronder invloed van licht. De afgedekte delen dieblijven zich achterna het [[belichtingsmasker]] bevonden worden door de [[ontwikkelingsvloeistof]]spoelen weggespoeldover.
 
[[Categorie: Materiaal]]
[[Categorie: Licht]]
 
[[de:Fotolack]]
68.007

bewerkingen